Hong Kong Polytechnic Üniversitesi (PolyU) kendini temizleyen ve ömrü tükendiğinde toza dönüşen yeni bir kumaş geliştirdi.Yenilik ve Teknoloji fonu ile desteklenen araştırmada, PolyU tekstil bilim insanları nanoteknoloji kullanarak kendini temizleyen özel bir kumaş üretmeyi başardılar.Kumaş, Lotus Nano (TM) yüzey dokuma teknolojisi ve patent bekleyen nano fotokataliz teknolojisi kullanılarak geliştirildi."İşe yarar ve Akıllı Tekstil & Konfeksiyon için Nanoteknoloji Merkezi"nde bu kumaşı geliştiren Prof. John Xin ve ekibi kumaşta kullanılan teknolojinin etkisini artırmak için, lotus çiçeğinin biyotaklidi ve nano titanyum dioksit kaplama tekniğini birleştirdiler.Lotus yaprağı nanoyapısı ve nano titanyum dioksit kaplama ile üretilen dokuma, leke, kir, koku, bakteri, zararlı gazlar ve nahoş su ve yağ kirlenmelerini parçalıyor ve kumaşı koruyor. Kendini temizleyen kumaşın daha az sıklıkta yıkanma ihtiyacı nedeniyle, çevrenin deterjan ve temizlik kimyasalları ile kirlenmesini de önlemiş oluyor.

Kendini temizleyen kumaşın aynı zamanda ultraviole ışınlarına karşı da mükemmel bir koruma sağladığı ifade ediliyor. Bu işlemle elde edilen kıyafetlerin yumuşak dokusunu ve nefes alabilirliğini de kaybetmeden yıkanmaya ve normal kullanıma karşı son derece dayanaklı olduğu bildiriliyor.